作者: junhua
PPS CMP保持环
作为半导体制造工艺的一个重要阶段,化学机械研磨(CMP)需要具备严密的工艺控制,严格的规定公差和高质量的表面形状和平面,产品和电子设备的小型化进一步对工艺性能提出了更高的要求,因而对固定环组件(CMP工艺的关键部件)性能的要求也越来越高。合…
2023-06-20 | PEEK环、电镀环、选镀环, 产品中心, 应用领域, 电子半导体、光伏、FPD |
PEEK选镀环
特性优点
1、应用于点对点端子连续续电镀中,通过PEEK选镀环可以精密控制镀层…
2023-06-20 | PEEK环、电镀环、选镀环, 产品中心, 应用领域, 电子半导体、光伏、FPD | 标签:PEEK环, 电镀环, 选镀环











